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光学玻璃的抛光、光圈的变化…

发布时间:2019-08-11 13:25 来源:未知 编辑:admin

  你好!我看到你回答了别人而也是我想要知道的问题,请问,玻璃抛光好了在干涉仪检测的时候是低光圈,而下盆清洗了之后再检测却是高光圈,我们的产品要求的角度是负多,光圈是高一道低...

  你好!我看到你回答了别人而也是我想要知道的问题,请问,玻璃抛光好了在干涉仪检测的时候是低光圈,而下盆清洗了之后再检测却是高光圈,我们的产品要求的角度是负多,光圈是高一道低一道半,请问你知道什么原因会下盆后光圈会反弹呢?有什么方法能两样都可以控制好呢?有没有和光胶手法有关系呢?希望你能给我解答哦!非常感谢了!

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  光圈变化一个是和温度有关系,我估计你们的 工作场所应该是恒温恒湿的,但是下盘清洗的时候不要用温差太大的溶液,还有就是经常要用标准样板检测你们的干涉仪,光圈变化除了和温度有关系以外还和光胶手法有很大的关系,一般情况下光胶都喜欢低光圈,因为高光圈不太容易光胶,光胶是靠分子间力自动结合上的,千万不要靠蛮力强压,有时候强压后涂上保护漆也可以勉强磨砂、抛光,但是抛光完成后一旦下盘,你原来的低光圈就会变成高光圈,我从08年开始就已经不做光学行业了,一直从事生产管理工作,有些光学概念已经记不太清楚了,不过有什么问题可以直接给我发邮件,能帮你的尽量帮你

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